本公司提供铌酸锂薄膜抛光、减薄处理，铌酸锂薄膜刻蚀，氮氧化硅、氧化硅薄膜沉积等服务。
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边缘倾斜抛光样品（斜坡长度>200μm）
铌酸锂微腔（品质因子>1e6）、波导刻蚀（波导损耗<0.3 dB/cm）
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